台式数控超声波清洗器
产品型号 SD270H超声功率（W） 300加热功率（W） 300容量（L） 15槽内尺寸（mm)L×W×H 300×240×200外形尺寸（mm)L×W×H 360×270×360超声频率（KHz） 40选配 降音盖、排水 网架、降音盖、排水价格（元） 9100（元） 9400（元）
舒美牌KQ5200E台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
深反应离子刻蚀及化学气相沉积等离子处理系统 （蚀刻、沉积、低温等离子体增强、装载互锁式 、感应耦合、ICP、等离子处理系统）
IL装载互锁式（Load Lock）感应耦合等离子（ICP）处理系统、感应耦合等离子（ICP）蚀刻/沉积等离子系统高性能深反应离子刻蚀（DRIE）及低温等离子体增强化学气相沉积（PEVCD）等离子处理系统
台式反应离子刻蚀(RIE)系统
  产品描述：台式反应离子刻蚀(RIE)系统关键字：台式反应离子刻蚀系统，台式反应离子刻蚀(RIE)系统，圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。